mitegen M-WS180320-1說明書 

品牌:mitegen

貨號：M-WS180320-1

品名：WatershedTM System Kit

Watershed TM

在收獲期間防止水滴變干。

Watershed™：用于蛋白質(zhì)晶體學(xué)的濕度控制工作站

一種功能強大的新型臺式工具，用于優(yōu)化您的晶體收獲和后期生長治療方案。

• 將下降工作時間增加10倍或更多
• 減少蛋白質(zhì)沉淀和降解
• 從每滴收獲更多的晶體
• 減少脫水和晶體非同構(gòu)
• 可控制地使晶體脫水以改善衍射
• 使用蓋玻片，載玻片，結(jié)晶板或家用X射線源

Watershed系統(tǒng)是與Douglas Juers教授（惠特曼學(xué)院）合作開發(fā)的。

Watershed為各種常見的樣品制備任務(wù)提供受控濕度環(huán)境，包括

• 將晶體彼此分離，沉淀物和蛋白質(zhì)皮膚之間可能形成結(jié)晶滴;
• 將晶體浸泡在含有冷凍保護劑，重原子或配體的溶液中;
• 將水晶從水滴上收集到X射線樣品支架上;
• 從晶體中吸去或吸走多余的液體，以減少背景X射線散射，并在切入冷卻過程中提高樣品冷卻速率;
• 將晶體放入MiTeGen的MicroRT毛細管或玻璃毛細管中進行室溫數(shù)據(jù)采集; 和
• 將晶體的水合作用調(diào)節(jié)到所需的相對濕度，這可能與它們生長的相對濕度不同，以改變蛋白質(zhì)結(jié)構(gòu)或優(yōu)化衍射性質(zhì)。

分水嶺包括一個水箱，一個控制單元和兩個工作站，提供50％和> 90％RH之間可控的相對濕度。

加濕室工作站接受18或22毫米蓋玻片或標準顯微鏡載玻片上的液滴?？梢允褂脴藴示w環(huán)，測角儀基座和磁棒在工作站內(nèi)收獲和操作晶體，同時使用長工作距離立體顯微鏡從上方觀察晶體。一旦安裝，樣品可以轉(zhuǎn)移到含有潮濕空氣的冷凍管中，然后可以取出樣品+冷凍管并將其運輸?shù)嚼绲蜏乩鋮s裝置。

定向噴嘴工作站可與多孔結(jié)晶板中的晶體一起使用，以提供指向被檢井的加濕氣流。該工作站還可以與實驗室X射線源一起使用，以在衍射數(shù)據(jù)收集期間可控地改變晶體的水合作用。

維持和控制樣品水合是生物分子結(jié)晶學(xué)以及細胞生物學(xué)，輔助生殖和相關(guān)領(lǐng)域中的關(guān)鍵問題。Watershed為此問題提供了方便，強大，低成本的解決方案。

當操作蓋玻片，載玻片或多孔微孔板中液滴中所含的晶體時，蒸發(fā)和蛋白質(zhì)降解會導(dǎo)致沉淀物和蛋白質(zhì)皮膚的形成，晶體聚集和粘附，以及晶體開裂和其他損壞。

蒸發(fā)限制了在晶體操作和收獲期間給定的液滴暴露于空氣的時間，之后液滴和其中的剩余晶體變得不可用。

在含有冷凍保護劑，重原子化合物或配體的溶液中晶體浸泡期間的蒸發(fā)可導(dǎo)致晶體內(nèi)這些溶質(zhì)濃度的不確定性和晶體與晶體的變化。

在這些步驟期間以及在晶體收集到結(jié)晶學(xué)環(huán)路或安裝期間的蒸發(fā)可導(dǎo)致晶體衍射性質(zhì)的降低和晶胞尺寸和蛋白質(zhì)結(jié)構(gòu)中晶體與晶體的變化。

后生長處理過程中的晶體脫水是室溫X射線數(shù)據(jù)采集中晶體非同構(gòu)性的主要原因，也是低溫非同構(gòu)的重要原因。當仔細控制晶體水合時，典型的室溫單位晶胞體積變化為1％或更多，降低至小于0.2％。

另一方面，對于大約5-10％的蛋白質(zhì)晶體，適度控制的脫水可以改善整體晶體順序和衍射性質(zhì)，并且當晶體衍射不充分時提供有用的補救方法。

Watershed提供了一種方便，低成本的解決方案，用于在晶體收集，操作，安裝和X射線數(shù)據(jù)收集期間控制水合環(huán)境。

通過使用Watershed，

• 相對于相對濕度低于50％的典型實驗室環(huán)境，液滴和樣品的工作時間可以增加10倍或更多。
• 每種液滴在變得無法使用之前可以收獲更多的晶體。
• 晶體同構(gòu)得到改善，提高了數(shù)據(jù)質(zhì)量，有時還減少了結(jié)構(gòu)測定所需的晶體數(shù)量。
• 蛋白質(zhì)結(jié)構(gòu)遠離其生物學(xué)相關(guān)形式的擾動減少。
• 數(shù)據(jù)的質(zhì)量和可重復(fù)性得到改善。

流域?qū)⒏邼穸?，室溫空氣（通過室溫水鼓泡干燥空氣產(chǎn)生）與干燥空氣混合，以獲得具有所需相對濕度的空氣流。

相對濕度范圍：50％至> 90％RH

水箱容量：2.5加侖/ 10升

要求：

電源：110-125 VAC，50-60 Hz，具有GFCI保護

在25psi的壓力下干燥空氣或氮氣的來源

蒸餾水或去離子水

控制單元：

尺寸：5.3（高）x 14.0（寬）×10.0（深）英寸/ 135×357×255毫米

重量：11.5磅/5.2千克

水缸：

尺寸：10.2（高）x 14.0（寬）×9.3（深）英寸/ 260×357×235毫米

重量：5.0磅/ 2.3公斤空; 26磅/11.8公斤滿

加濕外殼工作站：

尺寸：2.6（高）×4.5（寬）×2.2（深）英寸/ 66×115×55毫米

接受兩個18毫米或22毫米圓形蓋玻片或一個25 x 75毫米顯微鏡載玻片

所需的顯微鏡工作距離：小1.8英寸/ 45毫米

可定位噴嘴工作站：

磁性底座直徑：2英寸/ 54毫米

可定位的管道長度：19英寸/ 500毫米

通過限制晶體安裝過程中的脫水，提高了大分子低溫晶體中單位晶胞參數(shù)的重現(xiàn)性， ”Christopher Farley，Geoffry Burks，Thomas Siegert和Douglas H. Juers，Acta Cryst。D70,2111-2124（2014）。

“ 使用HC1b濕度控制器進行蛋白質(zhì)晶體脫水的通用方案 ”，Carina MC Lobley，James Sandy，Juan Sanchez-Weatherby，Marco Mazzorana，Tobias Krojer，Rados?awP。Nowak和Thomas L. Sorensen，Acta Cryst。D72,629-640（2016）。

“ 受控晶體脫水的自動化和經(jīng)驗：來自歐洲同步加速器HC1協(xié)作的結(jié)果，”Matthew W. Bowler，Uwe Mueller，Manfred S. Weiss，Juan Sanchez-Weatherby，Thomas LM。Sorensen，Marjolein MGM Thunnissen，Thomas Ursby，Alexandre Gobbo，Silvia Russi，Michael G. Bowler，Sandor Brockhauser，Olof Svensson和Florent Cipriani，Crystal Growth and Design 15,1043-1054（2015）。

“ 應(yīng)用于安裝的蛋白質(zhì)晶體的濕度控制和親水膠涂層改善了X射線衍射實驗，”Seiki Baba，Takeshi Hoshino，Len Ito和Takashi Kumasaka，Acta Cryst。D69,1839-1849（2013）。

“ 測量普通沉淀劑濃度的平衡相對濕度：促進受控脫水實驗 ”，作者：MJ Wheeler，S。Russi，MG Bowler和MW Bowler，Acta Cryst。F 68,111-114，（2011）。

“ 通過濕度控制改善衍射：與X射線光束兼容的新型設(shè)備。”Juan Sanchez-Weatherby，Matthew W. Bowler，Julien Huet，Alexandre Gobbo，F(xiàn)ranck Felisaz，Bernard Lavault，Raphael Moya，Jan Kadlec，Raimond BG Ravelli，和Florent Cipriani，Acta Cryst。D65,1237-1246（2009）。

“ 用于蛋白質(zhì)晶體的新型自由安裝系統(tǒng)：通過控制的濕度變化轉(zhuǎn)換和改善衍射功率 ”，Reiner Kiefersauer，Manuel E. Than，Holger Dobbek，Lothar Gremer，Marcos Melero，Stefan Strobl，Joao M. Dieas，Twefik Soulimane和Robert Huber，J。Appl。CRYST。33,1223-1230（2000）。

“ 晶體安裝單元的設(shè)計，允許在X射線衍射期間控制蛋白質(zhì)晶體的濕度變化，”MG Pickford，EF Garman，EY Jones和DI Stuart，J.Appl。CRYST。26,465-466（1993）。

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